1纳米可期!ASML研发第二代EUV光刻机

小帅帅 21352 0


半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中,台积电之所以能够领先,一个很重要的原因就是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这部分的成本就能占到33%左右。

目前最先进的光刻机就是来自这家ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。ASML的主要客户为全球一线的晶圆厂,除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外,国内的中芯国际也是ASML的客户。

有外媒报道称,ASML公司目前正积极投资研发新一代EUV光刻机,和往代的相比,新款EUV光刻机最大的变化就是高数值孔径透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了。

热门推荐:

网站优化实战篇如何挖掘关键词

如何合理设置关键词密度

文章页seo优化关键词操作步骤有哪些

中国游客泰国靶场吞枪自杀 其进入靶场时情绪沮丧

DEDE模板调换,网站安全防护

5个方法有效提高网站优化的效率!

腾讯副总裁钟翔平:车企数字化转型加速

深圳SEO算法:什么是烽火算法,烽火算法对SEO的影响

对伊朗不友好的国家请注意,你们的船可能被收过路费

迈凯轮720S Ride-On跑车,专为3至6岁的儿童设计

标签: IT之家 今日新鲜事 科技资讯

发表评论 (已有0条评论)

还木有评论哦,快来抢沙发吧~